Le principe du dépôt de couches par ablation laser (PLT - Pulsed Laser Deposition) est simple. Le faisceau laser vient ablater la surface d'une cible. Les espèces éjectées viennent se redéposer sur un substrat placé en vis-à-vis sous forme de couche. La nature et la qualité du dépôt dépend de nombreux paramètres (intensité du laser, pression partielle du gaz ambiant, température du substrat, adhérence…). La réalisation de certains dépôts, notamment de diamant amorphe (ou Diamond Like Carbon) nécessite la présence d'espèces très énergétiques dans le panache d'ablation. Or le panache produit par les lasers femtosecondes est essentiellement constitué d'ions multichargées de forte énergie (de l'ordre du keV). De plus, le caractère ultra-bref de l'ablation semble réduire la présence de d'agrégats ou de gouttelettes qui nuisent à la qualité du dépôt (étude en cours).
Le laser doit être de type impulsionnel.
Ces techniques ne sont à envisager que pour des applications spécifiques, pour lesquelles d'autres approches qualifiées industriellement ne sont pas adaptées.
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